I-LINE B系列高电流银触合金母线槽
基本描述
母线性能最薄弱的环节在于电气连接位置（如接头连接部位，插接口部位等），在这些区域：
温升高
能耗集中
故障多发
故障多发
因此，提高电气连接性能成为母线设计的关键。
I-LINE® B系列高电流母线采用施耐德电气独有的分子渗透技术，使铝、铜、银之间的过渡区域形成合金结构，完全消除了不同金属之间的电位差，成功突破了母线电气连接瓶颈，将电气传输性能提升到新的高度。
60年积铢累寸的不断进取，施耐德电气向亚太市场倾力推出I-LINE® B系列高电流母线，可广泛应用于能源及基础设施、工业、数据中心，商业及民用建筑的低压配电系统，为您带来稳定可靠的电力供应，并服务于您的智能供电系统，真正助您节能增效。
应用广泛
p 欧美超过二十年的应用历史
施耐德母线发展历程
1942年，施耐德推出第一种高电流母线槽
1955年，开始为客户提供全系列Canalis母线产品
1970年，推出新一代I-LINE高电流母线
1981年，施耐德独创分子渗透连接技术成功应用于中电流母线
1997年，采用分子渗透连接技术的高电流母线，在欧洲开始广泛应用
2008年，I-LINE® B系列高电流母线开始为亚太地区客户输送可靠电力
……
满足800－5000A各种电流等级要求
多种灵活连接方案，与所有低压配电设备无缝对接
简便灵活
扩展方便，可随时增加或移动负载
安装快捷，安装费用比电缆节省40%
专业的母线方案设计软件，提高设计精度和效率，优化项目运营成本
绿色环保
所有零部件重复利用率高达95%~98%
所有材料低烟无卤，符合RoHS指令
所有材料低烟无卤，符合RoHS指令
能耗低，压降小，全寿命周期内材料和能源综合效益高
性能可靠
可满载连续不间断运行，无需降容使用
接触电阻小，温升低
资料下载：
切换区域
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